Kohlenstoff-Sputtering-Target

Vorteile des Carbon Sputtering Targets

Zu den gebräuchlichen Formen gehören kreisförmige, rechteckige oder kundenspezifische unregelmäßige Strukturen, und ihre Vorteile kommen besonders beim Beschichtungsprozess zum Tragen.

EAusgezeichnete chemische Stabilität

Unter den Bedingungen des Hochvakuums und des hochenergetischen Teilchenbeschusses ist es weniger wahrscheinlich, dass es mit anderen Elementen reagiert. Dadurch wird die Reinheit der Beschichtungszusammensetzung gewährleistet.

Hhochgradig kontrollierbare Sputtering-Rate

Die Dicke der Kohlenstoffschicht lässt sich durch Anpassung der Prozessparameter genau steuern, um die unterschiedlichen Anforderungen an die Dicke zu erfüllen.

Wideelle Anpassungsfähigkeit

Sie können es mit verschiedenen Substraten kombinieren, wie z. B. Silizium und Metallen, um Kohlenstoffschichten zu bilden. Die Kohlenstoffschichten haben Eigenschaften wie hohe Härte, niedriger Reibungskoeffizient oder ausgezeichnete Leitfähigkeit.

Breites Spektrum an Reinheitskontrollmöglichkeiten

Sie können Zielmaterialien von hoher Reinheit (über 99,99%) bis hin zu dotierten Typen je nach Bedarf herstellen und die Leistung der Kohlenstoffschicht flexibel anpassen.

Stabile Nutzungsdauer

Unter Standardeinsatzbedingungen ist der Zielmaterialverlust gleichmäßig, was die Konsistenz der Chargenbeschichtungsproduktion gewährleistet.

Verwendungszwecke des Kohlenstoffsputtertargets

Elektronischer Halbleiterbereich

Beschichtung der Chip-Verbindungsschicht

Sie können Kohlenstoffschichten, die von hochreinen Kohlenstoff-Sputter-Targets gebildet werden, als Diffusionsbarrieren oder leitende Schichten verwenden. Die Verwendung für die metallischen Verbindungsschichten in Chips kann die Leitfähigkeit und Stabilität der Chips verbessern.

Vorbereitung der Sensorelektrode

Sie können es auf den Oberflächen von Gassensoren und Biosensoren verwenden, um hochempfindliche ElektrodenDadurch wird die Erkennungsgenauigkeit der Sensoren gewährleistet.

Optisches Feld

Anti-Reflexions-/Anti-Refraktions-Beschichtungen für optische Linsen

Mit Hilfe von Kohlenstofffilmen, die durch Kohlenstoffsputtering-Ziele gebildet werden, kann die optische Reflektivität und Durchlässigkeit von Linsen angepasst werden. Es eignet sich für optische Komponenten wie Kameralinsen und Laserlinsen.

Infrarot-Fensterbeschichtung

Sie können es auf der Oberfläche der Fenster von Infraroterkennungsgeräten verwenden. Es kann die Verschleißfestigkeit und die Leistung der Infrarotübertragung der Fenster verbessern.

Bereich der mechanischen Fertigung

Beschichtung von Präzisionswerkzeugen

Sie können DLC-Filme verwenden, die durch Sputtern mit diamantähnlichen Kohlenstofftargets gebildet werden, um die Oberflächen von Werkzeugen aus Hartlegierungen zu beschichten. Sie können die Härte und Verschleißfestigkeit der Werkzeuge erheblich verbessern und ihre Lebensdauer verlängern.

Verstärkung der Formoberfläche

Sie können Beschichtungen auf die Oberflächen von Stanz- und Spritzgussformen aufbringen, um den Verschleiß zu verringern. Sie verringern den Reibungskoeffizienten zwischen den Formen und den Werkstücken und verbessern die Produktionseffizienz der Formen.

Neues Energiefeld

Beschichtung von Bipolarplatten für Brennstoffzellen

Die Verwendung auf den Oberflächen von Bipolarplatten aus Metall kann die Korrosionsbeständigkeit und Leitfähigkeit der Bipolarplatten verbessern. Dadurch werden die Effizienz der Stromerzeugung und die Lebensdauer der Brennstoffzellen verbessert.

Modifizierung der Elektroden von Lithiumbatterien

Sie können es auch auf den Oberflächen der positiven oder negativen Elektrodenmaterialien von Lithiumbatterien verwenden. Es verbessert die elektronische Leitfähigkeit der Elektroden, wodurch die Lade- und Entladeeffizienz und die Lebensdauer der Batterien erhöht werden.