Susceptor de grafito

Ventajas del susceptor de grafito

El susceptor de grafito suele tener forma de disco, bloque o estructuras irregulares personalizadas, y sus ventajas son muy destacadas.

Excelente resistencia a altas temperaturas

Puede mantener la estabilidad estructural sin deformación ni degradación de las prestaciones en un entorno de temperaturas ultraelevadas superiores a 1500 °C.

Excelentes características de inducción electromagnética

Puede absorber rápidamente energía de radiofrecuencia o microondas y convertirla en energía térmica, logrando un calentamiento eficaz y uniforme.

Alta resistencia mecánica

Puede soportar una presión de carga y un estrés térmico relativamente grandes.

Propiedades químicas extremadamente estables

Tiene buena resistencia a la mayoría de gases corrosivos y reactivos químicos.

Alta eficacia de conducción del calor

Puede transferir rápidamente calorque garantiza la uniformidad de la temperatura durante el proceso.

Fácil de procesar mecánicamente y de tratar en superficie

Se puede personalizar en tamaño y forma según los diferentes requisitos del proceso.

Usos del susceptor de grafito

Fabricación de semiconductores

En procesos de precisión como la deposición química en fase vapor (CVD) y la deposición física en fase vapor (PVD) en la fabricación de chips, puede utilizarse como plataforma portadora del núcleo de la oblea. Gracias a su excelente conductividad térmica, puede conseguir una distribución uniforme de la temperatura de la superficie de la oblea en milisegundos. De este modo se garantiza la consistencia de la deposición de película fina. Y su alta estabilidad química puede resistir eficazmente la invasión de gases corrosivos e impurezas. Esto reduce significativamente la tasa de defectos de los chips y mejora en gran medida la tasa de rendimiento y el rendimiento eléctrico de la fabricación de chips.

Campo de crecimiento de los cristales

El susceptor de grafito también desempeña un papel importante en el proceso de crecimiento de cristales de alta gama como el zafiro y el carburo de silicio. No sólo proporciona un soporte estable para los cristales, sino que también crea un entorno de temperatura uniforme y estable mediante una tecnología precisa de control del campo térmico. Esta condición de crecimiento controlable puede controlar con precisión la velocidad de crecimiento, la orientación del cristal y su estructura interna, lo que reduce eficazmente los defectos de dislocación e impureza. Todo ello lo convierte en un componente básico clave indispensable para preparar materiales monocristalinos de gran tamaño y alta calidad.

Industria metalúrgica

En equipos metalúrgicos como hornos de inducción de vacío y hornos de arco eléctrico, sirve como núcleo portante resistente a altas temperaturas. Puede soportar la enorme presión y el fuerte choque térmico de los líquidos metálicos a alta temperatura. Con su excelente inercia química, puede prevenir eficazmente las reacciones químicas con metales activos en entornos de alta temperatura. Por lo tanto, elimina la introducción de impurezas desde la fuente y garantiza la alta pureza y los estándares de calidad estables de los productos fundidos.

Industria solar fotovoltaica

También se puede utilizar en los eslabones clave del proceso, como la difusión a alta temperatura y el recocido en la fabricación de obleas de silicio. El susceptor de grafito desempeña el papel de soporte preciso y transmisión eficaz de la oblea de silicio. Gracias a sus propiedades mecánicas estables y a sus características de conductividad térmica, puede garantizar que las obleas de silicio no se deformen ni se desplacen durante el procesamiento a alta temperatura, favoreciendo la difusión uniforme de los átomos de impurezas. A continuación, mejora significativamente la eficiencia de conversión fotoeléctrica de las obleas de silicio y la eficiencia global de la producción. De este modo, ayuda a la industria fotovoltaica a reducir costes y aumentar la eficiencia.