흑연 트레이

흑연 트레이의 장점

고온 내성

불활성 환경에서 2800℃ 이상의 온도를 견딜 수 있어 초고온 처리 환경에도 적응할 수 있습니다.

열 충격에 대한 내성

열팽창 계수가 매우 낮아 급격한 냉각 및 가열 환경에서도 균열이나 변형이 거의 발생하지 않습니다.

Good 화학적 안정성

산, 알칼리 및 부식성 가스에 강하고 부하와 반응하지 않으며 불순물 오염이 없습니다.

균일한 열 전도

열 전도율이 높고 전도가 균일하기 때문에 공작물을 일관되게 가열할 수 있습니다.

가볍고 견고함

밀도가 2.2g/cm³에 불과하고 내압 강도가 80MPa 이상이어서 하중을 견디는 능력이 강합니다.

또한 특정 요구 사항에 따라 필요한 크기와 모양으로 가공할 수 있습니다. 일반적으로 흑연 트레이는 평면, 홈, 천공 등 다양한 모양이 있습니다.

흑연 트레이의 용도

반도체 제조

금속 유기 화학 기상 증착(MOCVD) 장비에서 기판을 지지하는 데 사용할 수 있습니다. 고온 및 고진공 조건에서 에피택셜 증착을 수행하고 불순물 오염을 방지하여 에피택셜 층의 품질을 보장할 수 있습니다. 또한 고온(보통 1000℃ 이상)에서도 변형이나 손상 없이 안정적으로 작동할 수 있습니다.

단결정 성장

단결정 용광로, 아래에 배치할 수 있습니다. 흑연 도가니 를 사용하여 도가니가 안정적으로 유지되도록 합니다. 용융 금속 및 화학 가스에 대한 내식성이 뛰어나 오랫동안 사용할 수 있습니다. 열을 고르게 전도하여 도가니 내부의 온도 분포를 균일하게 유지하고 고품질 단결정의 성장을 촉진합니다.

화학 산업

또한 고온 반응기에서 반응물을 지지하고 보호하여 반응 효율을 향상시키는 데 사용할 수 있습니다. 반응물이 반응기와 직접 접촉하여 부작용을 일으키는 것을 방지할 수 있습니다. 또한 다양한 화학 물질에 대한 내식성이 우수하기 때문에 다양한 화학 반응에 적합합니다.

LED 제조

LED 에피택셜 웨이퍼 제조 공정에서 흑연 트레이를 사용하여 웨이퍼 기판을 지지할 수 있습니다. 고온 에피택셜 증착 공정 중에 웨이퍼 기판을 지지하는 데 사용되어 기판 표면의 온도를 균일하게 유지합니다. 또한 웨이퍼 기판의 무게와 공정 중 기계적 응력도 견딜 수 있습니다. 한편 흑연은 표면이 매끄럽고 화학적으로 안정적이기 때문에 부품과 반응하지 않습니다. 따라서 부품의 정밀한 구조와 표면 품질을 효과적으로 보호합니다.